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產(chǎn)品分類

  • 電鏡樣品制備

    離子研磨儀 鍍膜儀 熱蒸發(fā)鍍碳儀 離子濺射儀 精密離子減薄儀 凹坑研磨儀 研磨拋光機(jī) 振動(dòng)拋光機(jī)
  • 薄膜、塊體樣品制備

    真空封管機(jī)系統(tǒng) 水焊機(jī)(布朗氣焊接機(jī)) 靜電紡絲 勻膠機(jī) 流延機(jī) ALD原子層沉積設(shè)備 PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PVD物理氣相沉積設(shè)備 CVTD材料氣相生長輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)
  • 晶體樣品制備

    光學(xué)浮區(qū)爐
  • 粉末樣品制備

    噴霧干燥器
  • 器件樣品制備

    3D打印設(shè)備
  • 樣品處理系統(tǒng)

    惰性氣體手套箱系統(tǒng) 亞克力手套箱 手套箱蒸鍍一體機(jī) 有機(jī)溶劑凈化系統(tǒng)
  • 測試儀表

    鎖相放大器 數(shù)字源表 示波器 皮安表 阻抗分析儀 LCR表
  • 分析表征設(shè)備

    形貌成分表征 粒度分析 色譜分析儀 光譜分析儀 表面性能分析
  • 測試設(shè)備

    力學(xué)測試設(shè)備 電學(xué)測試設(shè)備 電化學(xué)測試設(shè)備 熱學(xué)測試設(shè)備 光學(xué)測試設(shè)備 磁學(xué)測試設(shè)備 聲學(xué)測試設(shè)備
  • 實(shí)驗(yàn)室通用輔助設(shè)備

    真空設(shè)備 氣源設(shè)備 溫控設(shè)備 稱量設(shè)備 研磨設(shè)備 樣品保存設(shè)備 清洗系統(tǒng) 電源設(shè)備 減震臺(tái) 配件、材料和耗材
  • 反應(yīng)設(shè)備

  • 粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
    粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD

    型號(hào):

  • FDTR頻域熱反射顯微測量系統(tǒng)
    頻域熱反射顯微測量系統(tǒng)

    型號(hào):FDTR

  • 常溫壓電d33測試儀
    常溫壓電d33測試儀

    型號(hào):

  • 壓電陶瓷高壓極化儀
    壓電陶瓷高壓極化儀

    型號(hào):

  • CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)
    CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)

    型號(hào):

  • SN1200-JSL15井式爐
    井式爐

    型號(hào):SN1200-JSL15

  • KW-4C勻膠機(jī)
    KW-4C勻膠機(jī)

    型號(hào):

  • 高分辨率顯微成像橢偏儀
    高分辨率顯微成像橢偏儀

    型號(hào):

  • 多功能高低溫真空探針臺(tái)
    多功能高低溫真空探針臺(tái)

    型號(hào):

  • AT-LT大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD
    大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD

    型號(hào):AT-LT

  • AT650P等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALD
    等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALD

    型號(hào):AT650P

  • AT410/AT610/AT810熱原子層沉積
    熱原子層沉積

    型號(hào):AT410/AT610/AT810

我們的優(yōu)勢

OUR ADVANTAGES

  • 01
    專注于團(tuán)隊(duì)研發(fā)

    公司產(chǎn)品質(zhì)量有保障,專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)、過硬的產(chǎn)品質(zhì)量,為技術(shù)先進(jìn)與新產(chǎn)品開發(fā)奠定了基礎(chǔ)。

  • 02
    可靠的產(chǎn)品質(zhì)量

    多層審核,注重品質(zhì)細(xì)節(jié),對(duì)每一道生產(chǎn)工序負(fù)責(zé),對(duì)每一位用戶負(fù)責(zé),竭誠為用戶提供合格的、可靠的產(chǎn)品。

  • 03
    完善的售后服務(wù)體系

    堅(jiān)持“客戶至上、誠信至上、用心服務(wù)、盡善 盡美”的服務(wù)理念,以優(yōu)良的產(chǎn)品質(zhì)量和可靠的技術(shù)服務(wù)受到了用戶的認(rèn)可。

  • 04
    專業(yè)團(tuán)隊(duì),嚴(yán)格管理

    堅(jiān)持“以用戶為中心、以人才為根本、努力實(shí)現(xiàn)你我共贏”的經(jīng)營理念,以我們誠信的態(tài)度和加倍的努力,與您共同發(fā)展。

關(guān)于我們

COMPANY PROFILE

北京盈思拓科技(Instonetech)有限公司是材料研究領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)提供商。Instone是Institute、Instrument、Instant的縮寫,代表公司秉承專業(yè)、高效的經(jīng)營理念,為科研用戶提供技術(shù)服務(wù)。公司深耕國內(nèi)科研市場近十年,以中科院等專業(yè)院所背景的技術(shù)力量為依托,為國內(nèi)各大科研機(jī)構(gòu)及材料研究客戶提供科研儀器設(shè)備和專業(yè)技術(shù)服務(wù)。公司以代理國內(nèi)外材料化工方向的儀器設(shè)備為核心業(yè)務(wù),產(chǎn)品覆蓋材料制備、表征、光、熱、電、磁等研究領(lǐng)域。公司在提供專業(yè)儀器設(shè)備的基礎(chǔ)上,根據(jù)客戶的不同需求...
新聞中心

NEWS CENTER

冷熱臺(tái)在材料科學(xué)中的相變觀測應(yīng)用 2025-07-16
冷熱臺(tái)在材料科學(xué)中的相變觀測應(yīng)用

在材料科學(xué)研究中,相變過程(如熔融、結(jié)晶、玻璃化轉(zhuǎn)變)的精準(zhǔn)觀測是解析材料性能的關(guān)鍵,冷熱臺(tái)通過可控的溫度環(huán)境與光學(xué)觀測系統(tǒng)的結(jié)合,成為捕捉相變細(xì)節(jié)的核心工具。...

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  • 10/21 2025
    臺(tái)式ALD的設(shè)計(jì)哲學(xué)與內(nèi)在技術(shù)特點(diǎn)全覽

    原子層沉積是一種基于自限制表面反應(yīng)的薄膜制備技術(shù),能在納米尺度(厚度控制精度達(dá)單原子層,約0.1nm)實(shí)現(xiàn)超高均勻性與保形性的薄膜沉積,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片柵極絕緣層(如氧化鋁)、柔性電子器件(如可穿戴設(shè)備的超薄介電層)及能源材料(如鋰離子...

  • 10/15 2025
    從原理到維護(hù):鍍膜儀全生命周期管理實(shí)踐

    鍍膜儀是材料表面改性的核心設(shè)備,通過在基底表面沉積金屬(如金、銀)、氧化物(如氧化鋁、氧化鈦)等功能薄膜,廣泛應(yīng)用于電子器件封裝、光學(xué)鏡片增透、生物傳感器制備等領(lǐng)域。其全生命周期管理涵蓋“原理認(rèn)知—操作規(guī)范—維護(hù)保養(yǎng)”全流程,直接影響薄膜質(zhì)...

  • 6/23 2025
    實(shí)驗(yàn)室小型水冷機(jī)常見使用誤區(qū),請規(guī)避!

    在現(xiàn)代科研和檢測實(shí)驗(yàn)中,實(shí)驗(yàn)室小型水冷機(jī)作為保障精密儀器穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光譜分析、激光器冷卻、生物反應(yīng)等場景。然而,在實(shí)際操作中,由于對(duì)設(shè)備原理和維護(hù)知識(shí)了解不足,許多用戶存在一些常見的使用誤區(qū),不僅影響冷卻效果,還可能引發(fā)設(shè)...

課題組的寵兒--科研專用臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)(臺(tái)式ALD) 2025-08-18
課題組的寵兒--科研專用臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)(臺(tái)式ALD)

一臺(tái)來自哈佛大學(xué)的原子層沉積系統(tǒng)一臺(tái)科研用的原子層沉積系統(tǒng)一臺(tái)備受課題組歡迎的ALD市面上小而美的ALD您值得擁有!!盈思拓(Insontech)----Anr...

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  • 10/23 2025
    深度解微納3D打印機(jī)實(shí)現(xiàn)高精度的核心原理

    微納3D打印機(jī)能在微米甚至納米尺度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)制造,其高精度突破傳統(tǒng)制造技術(shù)的極限,核心在于“光-材料-控制”的協(xié)同優(yōu)化。一、核心原理:微納3D打印的本質(zhì)是通過高能量密度束流(如激光、電子束)或微滴噴射,在特定區(qū)域選擇性固化/熔融材料...

  • 10/18 2025
    核心技術(shù)揭秘:離子濺射儀的工作原理與獨(dú)特設(shè)計(jì)特點(diǎn)剖析

    離子濺射儀是制備高純度、高結(jié)合力金屬/化合物薄膜的核心設(shè)備,其通過離子轟擊靶材實(shí)現(xiàn)原子級(jí)沉積,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、光學(xué)器件及納米材料領(lǐng)域。理解其工作原理與設(shè)計(jì)特點(diǎn),是優(yōu)化薄膜性能的關(guān)鍵。一、工作原理:離子濺射的核心是“動(dòng)量轉(zhuǎn)移”。設(shè)備通過...

  • 9/26 2025
    壓電陶瓷高壓極化儀主要用于對(duì)壓電陶瓷材料進(jìn)行極化處理

    壓電陶瓷高壓極化儀通過施加直流電場使其內(nèi)部電疇沿電場方向排列,從而賦予材料壓電性能。壓電陶瓷在極化前,各晶粒內(nèi)的自發(fā)極化方向隨機(jī)分布,導(dǎo)致材料整體無壓電效應(yīng)。極化儀通過施加高電壓并控制溫度、時(shí)間參數(shù),迫使電疇沿電場方向定向排列,形成單疇結(jié)構(gòu)...

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